常見鍍層材料及應用

金：具有良好的導電性、耐腐蝕性和耐磨性，常用于高頻連接器、射頻接口等關鍵區域，鍍層厚度一般為 1-3μm。

銀：電阻率低，高頻損耗小，適用于普通信號焊盤和線路，鍍層厚度約 0.1-0.2μm，但需注意防氧化處理。

銅：作為基礎導電層，廣泛應用于線路電鍍，厚度通常在 5-20μm，通過優化電鍍工藝，可提高其信號傳輸性能。

信號性能相關故障

阻抗超標：高頻信號傳輸時阻抗波動超過 ±3%，導致信號反射、損耗增大。除了鍍層厚度不均，還可能是鍍層結晶結構不佳（如銅鍍層晶粒粗大），或線路側蝕嚴重破壞阻抗設計。

高頻損耗異常：插入損耗、回波損耗不達標，常見于脈沖電鍍工藝參數不當。比如脈沖頻率、占空比設置不合理，導致鍍層趨膚效應增強，信號衰減加劇。

圖形電鍍：加厚功能鍍層

優先采用脈沖電鍍或周期反向電鍍，在線路裸露區域沉積銅層（厚度 5-15μm），保證鍍層結晶細密、低電阻率。

關鍵區域（如射頻接口、連接器）需進行選擇性電鍍，額外沉積金、銀等低損耗鍍層，厚度根據需求控制在 0.1-3μm。

電鍍過程中嚴格控制電流密度（1-5A/dm2）、鍍液溫度（20-30℃）及攪拌速度，確保鍍層均勻性與平整度。

去膠與蝕刻：剝離多余金屬

用化學脫膠劑或等離子體去除表面光刻膠 / 干膜，露出下方未被電鍍覆蓋的種子層。

采用微蝕工藝，蝕刻掉多余種子層，僅保留電鍍形成的功能線路，控制側蝕量≤0.5μm。

蝕刻后徹底水洗，避免殘留藥劑腐蝕鍍層或基材。